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高低溫循環裝置-70℃~250℃

簡要描述:應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環裝置-70℃~250℃

  • 產品型號:SUNDI-755
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-12-21
  • 訪  問  量:1081
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產地類別國產
應用領域化工,生物產業,石油,電子,制藥

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/



高低溫循環裝置-70℃~250℃

高低溫循環裝置-70℃~250℃


  TCU制冷加熱循環設備是各大制藥化工實驗室中進行制冷和加熱功能的控溫儀器設備,無錫冠亞這種設備常配套各種反應釜、反應器蒸餾,萃取等使用,那么,這類TCU制冷加熱循環設備是怎么進行控溫的呢?

  TCU制冷加熱循環設備采用全密閉循環管道循環制冷加熱中,通過導熱介質或者制冷劑進行制冷加熱循環來實現到達的溫度目標變化,達到后的溫度效果。TCU制冷加熱循環設備是全密閉的循環管路控溫,在高溫或者低溫中不需要更換導熱介質,可直接200℃高溫降溫,達到需要的溫度。

  TCU制冷加熱循環設備可實時控制運行畫面,以曲線圖的方式顯示記錄下來,可以選擇對應的程序以。運行過程中,如果出現問題有對應的靠譜保護功能。比如:相序保護、漏電保護器保護、泵過載保護、壓縮機過載保護、高低液位保護、斷水保護保護、循環管路關死保護保護。

  TCU制冷加熱循環設備采用智能控制,穩定好,結果重復性高,在使用操作TCU制冷加熱循環設備的時候比較簡單,設備型號大小不同,占地比較小。無錫冠亞制冷加熱循環設備可以配套一臺反應釜,也可以配套多臺反應釜進行制冷加熱控溫,全密閉循環管路減少導熱介質的接觸面積,減少導熱油的損耗。

TCU制冷加熱循環設備可以滿足不同的溫度要求以及行業需求,應用也是逐漸廣泛從之前的加熱或者制冷要求到現在的逐漸不同程度的要求不同的控制方式,例如壓力可控、流量監控、以及一些功能性的曲線記錄與顯示功能,設備更是逐漸的滿足客戶對苛刻溫度的需求。



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