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中試加熱制冷設備 工藝過程密閉循環恒溫器

簡要描述:【無錫冠亞】中試加熱制冷設備 工藝過程密閉循環恒溫器,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-275
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-03-21
  • 訪  問  量:443
詳情介紹
品牌冠亞制冷價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

  雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制系統是一種應用于化學、生物工程、制藥、新材料研發等領域的關鍵設備,主要用于準確控制雙層反應釜內物料的溫度,確保反應在設定的溫度范圍內穩定進行。

  雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制系統通常由內外雙層結構的反應釜、加熱/冷卻單元、溫度傳感器、智能控制器等組成。

  1. 雙層結構:雙層反應釜的內層用來裝載反應物料,外層則是環繞內層的夾套,通過夾套中的加熱或冷卻介質來控制內層物料的溫度。

  2. 動態恒溫控制:冠亞制冷動態恒溫控制系統可以根據設定的溫度目標和物料吸熱或放熱的情況,自動調節加熱或冷卻介質的流量和溫度,確保反應釜內溫度始終保持在適合范圍內。

  3. 加熱與冷卻單元:加熱單元可以采用電加熱、蒸汽加熱等方式,冷卻單元則可通過冷卻水循環、制冷劑循環等途徑實現。系統可根據需要迅速切換加熱和冷卻模式,適應反應過程中溫度變化的需求。

  4. 溫度傳感器與控制器:反應釜內部通常設有多個溫度傳感器,實時監測釜內不同位置的溫度。控制器基于這些溫度信號,運用PID或其他控制算法,準確調控加熱和冷卻單元的工作狀態,實現快速響應和準確控溫。

5. 應用實例:冠亞制冷雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制系統在生物酶催化反應、精細化學品合成、藥物結晶、新材料合成等各種對溫度控制要求苛刻的實驗和生產環節中都有廣泛的應用。例如,在聚合反應中,恒定的溫度可以確保反應的穩定性和產物的均一性;在藥物結晶過程中,準確的溫度控制有助于提高晶體純度和收率。



  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  


中試加熱制冷設備 工藝過程密閉循環恒溫器

中試加熱制冷設備 工藝過程密閉循環恒溫器


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