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油冷卻控溫裝置 反應釜溫度加熱制冷控制機

簡要描述:【無錫冠亞】油冷卻控溫裝置 反應釜溫度加熱制冷控制機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-635W
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-06-20
  • 訪  問  量:407
詳情介紹
品牌冠亞制冷價格區間20萬-50萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥,綜合

油冷卻控溫裝置 反應釜溫度加熱制冷控制機


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

 

  在半導體測試環節中,溫度控制系統發揮著作用。正確的溫度控制不僅影響著測試的準確性,還直接關系到半導體產品的質量和性能。因此,在選購半導體測試環節的溫度控制系統時,需要仔細考慮多個因素,以確保選購到合適的系統。

  1、明確測試需求。

  不同的半導體產品對溫度控制的要求可能不同,因此,在選購溫度控制系統之前,需要充分了解所需測試的半導體產品的特性和測試要求。例如,一些產品可能需要在高溫或低溫環境下進行測試,而另一些產品則可能需要模擬快速溫度變化的過程。只有明確了測試需求,才能選擇到合適的溫度控制系統。

  2、考慮精度和穩定性。

  對于半導體產品制造商來說,測試系統的精度和穩定性比較重要。精度高的溫度控制系統能夠更準確地模擬測試環境,從而提高測試的準確性。而穩定性好的系統則能夠保持長時間的穩定運行,減少測試過程中的誤差。

  3、操作簡便性也是需要考慮的因素之一。

  一個易于操作的半導體測試環節溫度控制系統可以降低員工的操作難度,提高測試效率,并減少人為因素導致的測試誤差。因此,在選購溫度控制系統時,可以關注其操作界面是否友好、操作步驟是否簡單明了等方面。

  4、供應商的選擇也是關鍵。

  在選購半導體測試環節溫度控制系統時,應選擇有良好信譽和經驗的供應商。這些供應商通常能夠提供質量可靠、性能穩定的溫度控制系統,并提供及時、專業的售后服務。此外,還可以參考其他用戶的評價和案例,以了解供應商的實力和口碑。

綜上所述,選購半導體測試環節的溫度控制系統時,需要綜合考慮不同因素,通過認真比較和選擇,可以選購到適合自己需求的溫度控制系統,為半導體測試環節提供可靠的溫度控制支持。



  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

TTTT油冷卻控溫裝置 反應釜溫度加熱制冷控制機

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